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- Christopher Stolz美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室
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- Norbert Kaiser德国夫朗禾费应用光学与精密机械研究所
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- Hugh Angus Macleod美国亚利桑那大学
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- Claude Amra法国菲涅尔研究所
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- Xu Liu浙江大学
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- Zhanshan Wang同济大学
Alexander V. Tikhonravov（俄罗斯莫斯科国立大学）
Detlav Ristau（德国汉诺威激光中心）
Markus Tilsch（JDS Uniphase Corp）
Michel Lequime（法国菲涅尔研究所）
Ulrike Schulz（德国夫朗禾费应用光学与精密机械研究所）
Pervak Vladimir（德国慕尼黑大学）
Angela M. Piegari（意大利ENEA）
Ludvik Martinu（加拿大蒙特利尔工程学院）
Mireille Commandere（法国菲涅尔研究所）
Flavio Horowitz（巴西UFRGS Inst. Fisica ）
Svetlana Dligatch（澳大利亚联邦科学与工业研究组织）
Li Li（加拿大国家研究院）
Francois Flory（法国马赛中央理工学校）
James Oliver（美国罗切斯特大学）
Frank Placido（英国西苏格兰大学）
Chang Kwon Hwangbo（韩国仁荷大学）
Harro Hagedorn（德国莱宝光学）
Jue Wang（美国康宁公司）
Bin Fan（日本光弛科技公司）
Yizhou Song（日本Shincron Company ）
Yalan Mao（美国苹果公司）
Cheng-Chung Lee（台湾国立中央大学）
Jianda Shao（邵建达，上海光学精密机械研究所）
Yiqin Ji（季一勤，天津8358所）
Weiguo Liu（刘卫国，西安工业大学）
Shaoji Jiang（江绍基，中山大学）
Zi Ma（马孜，西南应用物理研究所）
Kui Yi（易葵，上海光学精密机械研究所）
Dingquan Liu (刘定权，上海技术物理所)
Jinsong Gao (高劲松，长春光学精密机械研究所)
Shengming Xiong (熊胜明，中科院光电所)
Ping Ma (马平，成都光学加工中心)
Shuguo Fei (费书国，沈阳仪表科学研究院)
Zhoulin Wu (吴周令，合肥知常光电有限公司)
Xinbin Cheng （程鑫彬，同济大学）